Author(s): Yan Dan, Zhang Xizhong, Wang Jianguo
Pages: 387-392
Year: 2019 Issue:  4
Journal: Journal of International Stomatology
Keyword:  有限元分析; 应力; 正畸支抗; 微种植体; 螺纹深度;
Abstract: 目的 分析螺纹深度变化对微种植体及颌骨上的应力分布和位移的影响,为支抗微种植体的临床选择和优化设计提供理论参照.方法 运用Pro/E软件建立不同螺纹深度的微种植体和下颌骨三维有限元模型,用Hypermesh软件对该模型进行网格划分,并在微种植体顶部施加与颌骨面平行的正畸力2.94 N,用ANSYS软件进行三维模拟计算.结果 微种植体-骨界面应力峰值集中在骨密质内,当螺纹深度为0.3 mm时,微种植体颈部及其相邻颌骨面的Von-mises应力峰值最小,为18.12 MPa;螺纹深度为0.4 mm时,应力峰值最大,为60.28 MPa.结论 螺纹深度影响微种植体和颌骨的应力分布,在本实验条件下,螺纹深度为0.3 mm时,微种植体-骨界面、微种植体上的应力和位移分布最优.