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yong xuan zhuan dian ji yang ji rong chu fa ce ding du nie tian jia ji de zheng ping neng li
Author(s): 
Pages: 1-4
Year: Issue:  2
Journal: Electroplating & Finishing

Keyword:  整平能力镀镍旋转电极镀件电沉积表面粗糙度微分电容平整光滑整平剂粗糙性;
Abstract: <正> 任何镀件表面,即使是经过抛光的表面,都具有一定的微观粗糙性。因此,要得到光亮而平滑的镀层表面,必须要求添加剂具有相当的整平能力和光亮能力。这里说的整平能力,是指通过电沉积填平微观沟槽,而使镀层表面平整光滑的性能。通常,所谓整平是指表面粗糙度大于1μ的沟槽的填平,而粗糙度小于1μ沟槽的填平则属光亮性能的范围。可见,添加剂的整平和光亮能力都是反映通过电沉积填平沟槽性能的指标,二者本质相同。因而,具
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