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yi zhong xin de ke ti huan dan hua zuo de tu ceng dan hua zuo lv mo
Author(s): 
Pages: 64-65+70
Year: Issue:  1
Journal: Vacuum and Cryogenics

Keyword:  离子镀钻头涂层反应溅射氮化钛抗氧化性能晶体结构溅射镀膜显微硬度物理气相沉积;
Abstract: <正> 采用溅射离子镀工艺,按照不同成份已生产出了氟化钛铝膜。在 TiAl 比为50:50%的靶上,通过反应溅射,所沉积的膜成份为:Ti27.5%、A128.9%、N243.6%。发现晶体结构只有4.2×10-7毫米的晶格参数是氯化钠,这种膜的显微硬度是 HV2100—2300。将 Al 掺入氮化膜中改进了抗氧化性能,也改进了涂 TiAlN 钻头的性能。TiN 膜开始氧化的温度是550℃,然而 TiAlN 涂层与热空气激烈反应的温度为800℃。镀 TiAlN 的钻头,用两种不同的钢作了试
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