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hua xue qi xiang chen ji chao dao cai liao
Author(s): 
Pages: 66
Year: Issue:  1
Journal: Vacuum and Cryogenics

Keyword:  化学气相沉积化学汽相沉积高温超导材料物理气相沉积技术新技术铜薄膜基底金属丝大批生产超导体;
Abstract: <正> 日本正在研究一种新技术,为开发大批生产高温超导材料,如金属丝、线圈以及复合形状的薄膜作准备。一个研究小组与 Riken 公司(密封环制造商)合作,采用化学汽相沉积给各种基底涂上氧钇钡铜薄膜。广泛应用于半导体工业的化学汽相沉积使平厚的薄膜被沉积在电路基底的微米尺寸步长和通道内,一次可以覆盖大量基底。据报道世界上有几个半导体厂商试验了一种用于高 T_c 超导体的技术,但是未能发现一种适合的待蒸发的钡复合物。直到现在,物理气相沉积技术,
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