Author(s): QIANG You
Pages: 70-71
Year: 1986 Issue:  3
Journal: Vacuum and Cryogenics
Keyword:  薄膜; 脉冲激光; 化学汽相淀积; 电子光学; 准分子; 电阻率; 会议中心; 激光器; 会议报告; 应用;
Abstract: <正> 1985年激光与电子光学会议（CLEO85）于5月21～24日在美国巴尔的摩市会议中心举行,会议报告了不少激光在薄膜中的应用。 Allied公司报告了准分子（ArF）激光器诱发的化学汽相淀积硅化钛膜。薄膜在450℃淀积,650～750℃老化,得到电阻率为20～25微欧·厘米的光谱TiSi₂膜。