Author(s): Hong Wenyu, Wang Enyao, Pan Yudong, Chen Liaoyuan, Xu Xiaoqiao, Yang Shikun, Deng Huichen
Pages: 176-186
Year: 1998 Issue:  3
Journal: Vacuum Science and Technology
Keyword:  马赫数; 平行流速度剪切; 分子束注入; 极向流速度; 弹丸注入;
Abstract: 利用一组马赫探针研究HL-1M装置刮离层和边缘等离子体流在欧姆放电、壁硼化、偏压抽气孔栏、偏压电极、低混杂波电流驱动、电子回旋共振加热、弹丸注入、分子束注入、激光吹气和补充送气等情况下的平行流马赫数、离子饱和电流扰动、平行流速度剪切和极向流速度的分布。实验中发现局部等离子体电位快速变化，改变了电场分布，改变了边缘等离子体的流速和方向。从而改善了等离子体约束性能。