The server is under maintenance between 08:00 to 12:00 (GMT+08:00), and please visit later.
We apologize for any inconvenience caused
Login  | Sign Up  |  Oriprobe Inc. Feed
China/Asia On Demand
Journal Articles
Laws/Policies/Regulations
Companies/Products
wen zhai xuan lu
Pages: 199
Year: Issue:  6
Journal: Chemical World

Keyword:  等离子体示意图负性抗蚀剂实验电子束光刻光致抗蚀剂物理和化学性能抗蚀材料射线扫描电镜图;
Abstract: <正> X-射线抗蚀材料Solid State Technology,23(5),73(1980) 本文分二个部分评述了4~14 X-射线刻蚀光致抗蚀剂的特性。在背景和一般讨论中主要叙述了X-射线刻蚀所需抗蚀剂的物理和化学性能。在实验部分叙述了:A.含金属的抗蚀剂、B.含卤素抗蚀剂、C.新型高速负性抗蚀剂、D.等离子体显影抗蚀剂等试验经过,附有扫描电镜图和示意图,颇为详尽。(水)
Related Articles
loading...