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wen zhai xuan lu
Pages: 199
Year: 1982
Issue:
6
Journal: Chemical World
Keyword: 等离子体; 示意图; 负性抗蚀剂; 实验; 电子束光刻; 光致抗蚀剂; 物理和化学性能; 抗蚀材料; 射线; 扫描电镜图;
Abstract: <正> X-射线抗蚀材料Solid State Technology,23(5),73(1980) 本文分二个部分评述了4~14 X-射线刻蚀光致抗蚀剂的特性。在背景和一般讨论中主要叙述了X-射线刻蚀所需抗蚀剂的物理和化学性能。在实验部分叙述了:A.含金属的抗蚀剂、B.含卤素抗蚀剂、C.新型高速负性抗蚀剂、D.等离子体显影抗蚀剂等试验经过,附有扫描电镜图和示意图,颇为详尽。(水)
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