Author(s): WANG Zhongfang, XIE Chengmin, ZHAO Deyi, WU Longsheng, LIU Youbao
Pages: 245-248
Year: 2011 Issue:  2
Journal: Engineering Journal of Wuhan University
Abstract: 随着绝缘体上硅(SOI)技术的快速进展,SOI集成电路的静电放电(ESD)保护已成为一个主要的可靠性问题.研究了基于PD SOI工艺的栅耦合N型金属氧化物半导体管(GCNMOS)电源箝位保护电路,以形成全芯片ESD保护网络.利用HSPICE仿真的方法,可以准确地确定R值和C值,以确定合理的触发电压.根据PD SOI工艺特点设计了基于不同体偏置类型、不同源漏注入类型和不同栅宽的NMOS管的各种GCN...