Author(s): Hua Jin-Rong1) Li Li1) Xiang Xia1) Zu Xiao-Tao1) 2) 1) 2)
Pages: 244-248
Year: 2011 Issue:  4
Journal: Acta Physica Sinica
Keyword:  杂质颗粒;  三维时域有限差分;  数值计算;  光强增强因子;
Abstract: 熔石英亚表面缺陷是光学材料低损伤阈值的主要因素之一.本文建立了熔石英亚表面三维球形杂质颗粒模型,采用三维时域有限差分方法对杂质附近的光场进行了数值模拟,分析了杂质的介电常数与尺寸对光强增强因子的影响,结果显示:介电常数小于熔石英的杂质,其光强增强因子不随尺寸、介电常数的改变而改变,均保持为4左右;当介电常数为6.0时,半径为1.5λ,2λ及2.5λ的杂质,相应的光强增强因子分别为50.1588,73.3904及102.9953,即增强因子随杂质尺寸的增大而增大;恰为球体的杂质比椭球体的杂质对入射光强的增强更大.因此,介电常数大于熔石英,且尺寸较大的球形杂质,其场增强非常明显.