Author(s): XIE Weiling, WANG Hui, YANG Peihui, CAI Jiye
Pages: 9-12
Year: 2010 Issue:  5
Journal: Chinese Journal of Analysis Laboratory
Keyword:  阳离子表面活性剂; 双氢青蒿素; 银电极; 伏安法;
Abstract: 采用电化学方法研究了阳离子表面活性剂对双氢青蒿素(DHA)在银电极表面伏安行为的影响, 并探讨了其电极界面的电化学机理. 随着阳离子表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵(CTMAB)的加入, DHA的还原峰电位发生明显的变化. 当CTMAB的浓度为1.0×10-5 mol/L时, DHA的峰电位正移了102 mV, 活化能降低, DHA的过氧键更容易断裂. 当CTMAB的浓度继续增大至7.0×10-4 ...